Sistem penyemburan atomisasi ultrasonik untuk fotoresist menentang salutan

 

 

 

Sistem penyemburan atomisasi ultrasonik untuk photoresist menentang salutan untuk fotoresist menentang salutan adalah kaedah alternatif untuk berputar salutan. Penyelesaian photoresist diatur ke dalam cecair bersaiz mikrometer melalui getaran ultrasonik frekuensi tinggi -, dan kemudian titisan photoresist disimpan di permukaan substrat untuk membentuk filem photoresist berterusan. Oleh itu, penyemburan boleh meliputi seluruh permukaan apa -apa bentuk substrat dan menyediakan salutan konformal tanpa mengira topologi.
Untuk menyemburkan photoresist, photoresist mesti mempunyai kelikatan yang cukup rendah. Biasanya, dengan kelikatan beberapa CST, mungkin perlu untuk mencairkan photoresist dengan pelarut. Pencahayaan photoresist boleh mempercepatkan proses penuaan photoresist dan membentuk zarah dalam medium. Satu lagi batasan penyemburan adalah sukar untuk membentuk filem nipis yang lebih kecil daripada 1 μ m kerana pengedaran titisan rawak jatuh di permukaan. Untuk membentuk filem nipis yang berterusan, adalah perlu untuk mencapai ketumpatan titisan photoresist kritikal minimum, yang meningkatkan ketebalan filem minimum dan masa pemprosesan.

 

 

 

 

 

1. Pembuatan Semikonduktor: Semasa proses pembuatan cip, penyemburan photoresist ultrasonik dapat meningkatkan ketepatan proses fotolitografi.
2. Mikro Nano Pemprosesan: Salutan photoresist yang tepat adalah penting dalam fabrikasi mikrostruktur dan struktur nanos.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Cool tags: Sistem penyemburan atomisasi ultrasonik untuk fotoresist menentang salutan, sistem penyemburan atomisasi ultrasonik China untuk photoresist menahan pengeluar salutan, pembekal, kilang