Sistem salutan litografi ultrasonik semikonduktor

 

 

 

Penyemburan ultrasonik adalah proses yang mudah, ekonomik, dan boleh dihasilkan untuk salutan photoresist dalam pemprosesan wafer fotolitografi. Sistem salutan litografi semikonduktor semikonduktor Funsonic menggunakan teknologi lapisan lanjutan untuk mengawal kadar aliran, kelajuan salutan, dan jumlah pemendapan. Pencetakan semburan kelajuan rendah mentakrifkan semburan atomisasi sebagai corak yang tepat dan terkawal untuk mengelakkan overspray dan menghasilkan lapisan yang sangat nipis dan seragam.
Sistem salutan litografi fotoresis semikonduktor Funsonic mempunyai kelebihan dalam mendepositkan lebih banyak lapisan seragam, terutama di sepanjang bahagian atas sidewalls alur nisbah aspek yang tinggi dan struktur alur berbentuk V -. Putaran centrifugal tidak boleh mendepositkan lapisan seragam di sepanjang sisi sisi, tanpa mengumpul terlalu banyak photoresist di bahagian bawah rongga.
 

 

 

 

 

1. Liputan filem seragam dari pelbagai kontur permukaan.
2. Mampu melapisi alur nisbah aspek tinggi dengan keseragaman yang sangat baik.
3. Tidak menyumbat semburan atomizing.
4. Mampu mendepositkan lapisan nipis mikron tunggal yang sangat seragam.
5. Proses penyemburan matang yang berulang.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Cool tags: Sistem salutan litografi ultrasonik semikonduktor, China Semikonduktor Photoresist Ultrasonic Litography Coating System Manufacturers, Pembekal, Kilang